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P產(chǎn)品分類(lèi)RODUCT CATEGORY

  • CMP拋光液研發(fā)裝置
    CMP 拋光液研發(fā)裝置是專(zhuān)門(mén)用于開(kāi)發(fā)和優(yōu)化 CMP 拋光液的關(guān)鍵設(shè)備。
    01

    更新日期

    2024-08-14
    02

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家
    03

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    604
  • 電子級(jí)氨水裝置
    電子級(jí)氨水裝置是用于生產(chǎn)高純度電子級(jí)氨水的專(zhuān)業(yè)設(shè)備。
    01

    更新日期

    2024-08-14
    02

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家
    03

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    809
  • CMP化學(xué)機(jī)械拋光液生產(chǎn)裝置
    CMP 化學(xué)機(jī)械拋光液生產(chǎn)裝置是用于大規(guī)模制造 CMP 化學(xué)機(jī)械拋光液的重要設(shè)施。
    01

    更新日期

    2024-08-14
    02

    廠商性質(zhì)

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    03

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    528
  • CMP拋光液工藝裝置
    CMP 拋光液工藝裝置是用于生產(chǎn)和優(yōu)化 CMP 拋光液的關(guān)鍵設(shè)備。
    01

    更新日期

    2024-08-14
    02

    廠商性質(zhì)

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    698
  • CMP拋光液中試裝置
    CMP 拋光液中試裝置是在大規(guī)模生產(chǎn)之前,用于對(duì) CMP 拋光液進(jìn)行中間規(guī)模試驗(yàn)和優(yōu)化的重要設(shè)備。
    01

    更新日期

    2024-08-14
    02

    廠商性質(zhì)

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  • NMP剝離液溶劑回收裝置
    NMP 剝離液溶劑回收裝置是用于回收 NMP(N-甲基吡咯烷酮)溶劑的設(shè)備。
    01

    更新日期

    2024-08-14
    02

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